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说到等离子清洗机，大家首先会想到技术比较成熟的等离子清洗机主要分为电容耦合等离子清洗机(CCP)和电感耦合等离子清洗机(ICP)，而微波等离子清洗机相对比较少见。但随着近年来国内半导体产业和新材料等领域的迅猛发展，微波等离子体表面处理技术也越来越受到重视。
微波等离子清洗机的概念和特点
微波等离子清洗的核心部件在于，可匹配调谐的波导管和等离子发生器，这两个部件的设计和工艺与国外先进技术还存在不小的差距。国产实验型微波等离子清洗机已经有在使用，而用于大规模工业清洗的微波等离子清洗机还鲜有看到。
工业应用的微波等离子清洗机一般都属于表面波型，其工作模式是通过辐射微波电磁场直接将气体击穿实现放电，一般要求放电气压高，因为没有离子的加速作用，其电子密度较高，对于有机物的去除和材料表面活化的效率是比较高的。
等离子清洗机与超声波清洗机的主要区别
等离子清洗机和超声波清洗机的主要区别等离子清洗是干式清洗，超声波清洗是湿法清洗，在经过等离子清洗以后，被清洗物体已经很干燥，不必再经干燥处理即可送往下道工序。
等离子清洗在完成清洗去污的同时，还能改变材料本身的表面性能，如提高表面的润湿性能，改善膜的附着力等，这在许多应用中都是非常重要的。
虽然等离子清洗机表面上比超声波清洗机更加智能化，但是还有很多缺点需要提示，比如放电气压高带来的问题是等离子体局域化比较严重，纵深清洗比较差，不利于多层面的大尺度的清洗处理，而且微波电磁场对电子元器件多少会有一定电磁辐射作用，有可能会造成电子元器件的击穿损伤，最后就是设备造价高，维修保养不是很方便。
